Pall Lithography & Photoresist Filtration

Pall 光刻胶过滤器

围绕光刻胶中的颗粒、凝胶、金属贡献与微气泡控制,根据化学体系、膜材、过滤位置、流量、压差和设备接口整理 Pall 光刻过滤器产品范围。

Pall Falcon 光刻胶点位过滤器官方产品图

Product families

常见产品系列

具体系列、可选规格和供货状态以实际项目确认为准。

Falcon®面向光刻胶设备点位过滤的低滞留量过滤器系列。
PhotoKleen™面向光刻化学品点位分配与微气泡控制的过滤产品系列。
Ultipleat® P-Nylon适用于兼容介质的光刻胶、溶剂及 TMAH 显影液批量过滤系列。
P Emflon® / PE-Kleen面向兼容光刻胶、抗反射涂层及高纯光刻化学品的批量过滤系列。

Applications

常见应用场景

产品是否适用仍需结合具体介质、设备和工艺条件确认。

01

光刻胶批量过滤

02

涂胶显影设备点位过滤

03

显影液、BARC 与 TARC

04

光刻溶剂与高纯化学品

FAQ

选型常见问题

先把边界条件说清楚,通常能显著减少询价往返。

Pall 光刻胶过滤器可以只按过滤精度选择吗?

不建议。还要同时确认光刻胶化学体系、膜材吸附、凝胶负载、润湿方式、流量压差、滞留量和设备接口。

Falcon、PhotoKleen 和 Ultipleat P 如何区分?

它们对应的结构、安装位置、膜材和应用条件不同。应先区分批量过滤与设备点位过滤,再依据介质和设备条件核对具体系列。

众睿芯可以协助确认 Pall 旧型号吗?

可以。请提供完整型号、标签照片、使用介质、安装位置、数量和期望交期,我们会先整理产品识别与待确认项。

资料来源:Pall 官方产品页面。本站不是 Pall 官方网站,页面用于中文需求整理与本地服务,不替代品牌正式技术文件。

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