Application solutions

按半导体工艺与现场问题查找产品

覆盖光刻胶、CMP、湿法清洗、电子化学品、特气、CVD/ALD、MOCVD、UPW、PFA 管路与晶圆搬运等应用入口。

Pall application focus

Pall 重点应用快速入口

Pall 产品信息不再隐藏在通用应用列表中，可直接进入光刻胶或半导体工艺气体应用。

Pall lithography filtration

批量过滤、涂胶显影设备点位、颗粒、凝胶、金属贡献与微气泡控制。

Pall process gas filtration

大宗分配、气柜、VMB、设备点位的 UHP 气体颗粒控制与过滤纯化边界。

Photoresist Filtration

覆盖 Pall 与 Entegris 光刻过滤产品，从化学品生产、包装到 FAB 端输送与点位过滤，围绕颗粒、凝胶、金属贡献、微气泡和材料利用率梳理产品组合。

Ultrapure Gas Filtration & Purification

覆盖 Pall 与 Entegris 工艺气体产品，围绕大宗气、特气、气柜、VMB 与设备点位，将颗粒过滤和痕量杂质纯化分开确认。

High-purity Chemical Delivery

面向电子化学品厂、CDS/SDS 工程与湿法设备，协调包装、过滤、PFA 管路、阀门和连接组件。

Wafer and Reticle Protection

从厂内自动化搬运到跨厂运输，围绕颗粒、湿度、氧、VOC、机械保护和设备接口确认载具。

CMP Slurry Filtration

围绕 CMP 浆料中的大颗粒、团聚物、凝胶与研磨缺陷，从浆料供应、循环、机台点位和更换周期梳理过滤条件。

Wet Process Chemical Filtration

面向酸、碱、溶剂、清洗液和蚀刻液，从化学品供应到湿法槽体与设备点位控制颗粒、析出和材料兼容风险。

Process Gas Point-of-use Filtration

针对 CVD、ALD、刻蚀、离子注入等设备端工艺气路，按气体兼容性、流量、温压、接口和安装位置确认点位过滤。

MOCVD Gas Purification

面向 GaN、SiC 等化合物半导体 MOCVD 工艺，围绕氢气、氮气及相关气体中的水氧杂质、流量与纯化器寿命确认方案。

UPW and PFA Fluid Distribution

从超纯水支路、设备配管到高纯化学品模块，围绕 PFA 管材、接头、阀门、死体积、洁净度和安装条件整理配置。

How to start

提交介质、流量、温压、接口、设备位置和目标问题，我们会先把缺失条件列清楚。

工程边界

最终产品选择需以正式数据表、化学兼容性、原厂建议及客户验证结果为准。