Pall · Pall Semiconductor Process Gas Filtration
Pall 半导体气体过滤器
用于半导体超高纯工艺气体大宗分配、气柜、VMB 与设备点位的颗粒控制。
查看产品与选型Process Gas Point-of-use Filtration
针对 CVD、ALD、刻蚀、离子注入等设备端工艺气路,按气体兼容性、流量、温压、接口和安装位置确认点位过滤。
提交应用工况 →客户常搜:CVD 设备端气体过滤器ALD 工艺气路颗粒控制刻蚀机台气体过滤point of use gas filter
Process view
同一个产品名称,在不同位置可能对应不同的材料、流量、压差和维护要求。
确认沉积、刻蚀或注入工艺,以及气体名称、混合比例和危险特性。
核对气柜、VMB 至机台入口的压力、流量、管径和已有过滤纯化配置。
根据阀组、腔体前端、温度、空间、流向和接口选择安装位置与结构。
评估更换周期、吹扫要求、停机风险和工艺变更后的重新确认。
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根据项目位置组合使用,避免只按单一料号理解整个系统。
FAQ
不可以。外形和接口相同仍可能存在过滤介质、额定流量、压力、温度和气体兼容性的差异。
两处承担的风险和流量条件不同。需要结合系统污染来源、维护边界和敏感点位决定,项目中也可能分级配置。
Application inquiry
把设备位置、介质、参数和当前问题告诉我们,我们会整理下一步确认清单。